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De nouveaux dispositifs sur silicium grâce à une combinaison de dépôts physique et chimique

30/01/2018 12h00, par techno-science.net

Des chercheurs de l'IES, en collaboration avec l'INL, ont réalisé des nanostructures d'oxydes ferroélectriques sur silicium en combinant l'épitaxie par jets...

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