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La nouvelle version de l'OVM fait passer la vérification à l'étape supérieure

24/09/2008 15h40, par Clotilde Zeller

La méthodologie de vérification la plus complète du marché fournit maintenant des lignes directrices permettant de développer des environnements de vérification hiérarchique

 

Septembre 2008 – Mentor Graphics Corp. (NASDAQ: MENT) et Cadence Design Systems, Inc. (NASDAQ: CDNS) ont annoncé la parution de la dernière version de la méthodologie de vérification libre OVM (Open Verification Methodology). OVM 2.0 inclut le nouveau Guide de l'Utilisateur OVM, présentant une aide pas-à-pas destinée à assister les utilisateurs lors du développement des IP de vérifications réutilisables et interopérables, ainsi que des environnements hiérarchiques, afin de faciliter la vérification « plug-and-play ». Cette nouvelle parution étend le mécanisme reconnu de stimulus séquentiel avec des interfaces de modélisation niveau transaction (TLM) et permet ainsi la modularité et la réutilisation des séquences de stimuli. Apparaissent aussi d'autres améliorations, comme la prise en charge directe des classes paramétrées depuis les « factories » OVM et le debug  intégré des connexions TLM au travers de toute la hiérarchie.
 

Le Guide de l'Utilisateur OVM offre une documentation claire et complète sur tous les aspects de l'OVM, incluant une révision complète du TLM pour la vérification, une aide pour le développement de composants de vérification OVM réutilisables, des instructions pour la création de tests de vérification ainsi qu’une revue en profondeur des fonctionnalités les plus avancées de l'OVM. Ce guide inclut aussi un exemple détaillé montrant comment appliquer ces concepts à la création d'un environnement complet de vérification hiérarchique, comprenant des tests permettant de configurer l'environnement et de sélectionner les séquences de stimuli désirées afin d'appliquer la fonctionnalité requise.
 

« La parution de la version 2.0 de l'OVM est un événement majeur pour les équipes de vérification, » confirme Tommy Kelly, DSI de Verilab. « Elle est basée sur la précédente parution de la méthodologie, augmentant encore les possibilités des ingénieurs s'intéressant aux environnements de vérification réutilisables et interopérables, et renforçant de manière générale les raisons d'utiliser l'OVM. Verilab déploie l'OVM dans son propre flow de développement d’IP de vérification et encourage l'utilisation de la méthodologie chez nombre de ses clients internationaux. Nous sommes ravis de constater cette avancée. »
 

La parution de l'OVM 2.0 marque la continuité de la fructueuse collaboration technique entre Mentor Graphics et Cadence en fournissant la méthodologie de vérification la plus complète et adaptable actuellement disponible sur le marché. Les améliorations disponibles dans l'OVM 2.0 ont été implémentées à partir de nombreuses recommandations d'utilisateurs reçues sur le forum interactif d’OVM World (www.ovmworld.org) et grâce à l'OVM Advisory Group, démontrant l'engagement constant des deux entreprises à fournir une solution permettant la réalisation rapide et facile de tâches de vérification selon les meilleurs standards du marché.

 

A propos de l'OVM
La méthodologie de vérification OVM, basée sur le standard IEEE Std. 1800™-2005 SystemVerilog, est la première méthodologie industrielle de vérification « open source » basée sur SystemVerilog et garantissant l'interopérabilité entre langages. Elle offre une méthodologie et une bibliothèque d'accompagnement qui permettent aux utilisateurs de créer des environnements de vérification modulaires et réutilisables au sein desquels les composants communiquent entre eux via des interfaces standard modélisées au niveau transactionnel. L'OVM permet également la réutilisation intra et inter société au travers d’une méthodologie commune et de classes pour les séquences virtuelles, la réutilisation « block-to-system », ainsi qu’une intégration complète avec d'autres langages communément utilisés dans les flux de production.

A propos de l'OVM Advisory Group
L'OVM Advisory Group, fondé en février 2008, est une organisation composée d'utilisateurs particulièrement impliqués et de fournisseurs aidant à développer à travers cet écosystème de nouvelles fonctionnalités et capacités pour l'OVM. Parmi les membres fondateurs de l'OVM Advisory Group, on retrouve ARM, Cisco Systems Inc., Denali Software Inc., Freescale Semiconductor Inc., IBM Corp., Infineon Technologies, Nokia Corp., STMicroelectronics NV et Xilinx Inc.

À propos de Mentor Graphics
Mentor Graphics Corporation (NASDAQ : MENT) est l’un des principaux fournisseurs mondiaux de solutions de conception électronique, pour le matériel et le logiciel, offrant des produits, des services de conseil et une assistance technique reconnue aux sociétés internationales les plus performantes du monde dans le domaine de l’électronique et des semi-conducteurs. Fondée en 1981, la société a réalisé un chiffre d'affaires d’environ  850 millions de dollars US au cours des 12 derniers mois et emploie environ 4 500 personnes dans le monde. Le siège social mondial est situé 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777. Site Web : http://www.mentor.com/.

A propos de Cadence
Cadence soutient l'innovation en conception électronique dans le monde entier et joue un rôle essentiel dans la création des circuits intégrés et de l'électronique d'aujourd'hui. Les clients utilisent les logiciels, le matériel, les méthodologies et les services de Cadence pour concevoir et vérifier les semi-conducteurs évolués, les composants électroniques grand public, les réseaux et les équipements télécoms, ainsi que les systèmes informatiques. Cadence a réalisé un chiffre d'affaire d'environ 1,6 milliards de dollars US pour l'exercice 2007 et compte environ 5 100 employés. La société est basée à San José en Californie et dispose de plusieurs agences commerciales, centres de recherche et développement dans le monde entier afin de servir le marché mondial de l'électronique. Pour plus d'informations sur la société, ses produits et ses services, visitez le site www.cadence.com.

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