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IBM et Mentor Graphics s’associent pour développer une solution de lithographie informatisée en 22 nm pour le secteur des circuits intégrés

30/09/2008 15h37, par Zeller

Septembre 2008 – IBM (NYSE : IBM) et Mentor Graphics Corporation (Nasdaq : MENT) annoncent aujourd’hui un accord visant à concevoir et à distribuer conjointement des solutions de lithographie informatisée de dernière génération. L’objectif est de franchir une nouvelle limite de résolution, et de permettre aux systèmes de fabrication de circuits intégrés actuels d’atteindre les générations 22 nanomètres (nm) et inférieures. Cet accord fait partie intégrante de l’initiative de miniaturisation d’IBM visant à créer le premier processus de production de semiconducteurs en 22 nm. Cette initiative a d’ailleurs elle aussi été annoncée.

« Le cap des 22 nm représente un véritable défi pour l’industrie, car les approches traditionnelles de miniaturisation ne sont plus viables en raison des lois de la physique », explique Gary Patton, vice-président de la division microélectronique d’IBM. « Nous devons donc nous tourner vers des solutions de miniaturisation informatisées pour franchir ce nouveau cap et les suivants. Nous sommes ravis d’avoir signé ce partenariat unique en son genre, car il conférera à IBM une suprématie dans le domaine des technologies de traitements lithographiques, des algorithmes et de l’informatique de pointe grâce au système Calibre® nmPlatform, leader du marché. Au cours des semaines à venir, IBM aura d’autres communiqués à faire à propos de nos stratégies. Nous prévoyons en effet de concevoir un environnement de miniaturisation informatisée très complet pour notre projet de technologie de miniaturisation informatisée à 22 nm. »

« Ce partenariat est le prolongement logique de celui qui unit IBM et Mentor depuis que nous travaillons ensemble sur des solutions de correction des effets de proximité optique (OPC) par simulation pour la génération 130 nm. Il étend encore la collaboration dont nous avons parlé conjointement au mois de février dernier (http://www.mentor.com/company/news/calibrenmopccellbeibm) à propos du processeur Cell Broadband Engine™ », explique Joseph Sawicki, vice-président et directeur général de la division conception silicium de Mentor Graphics. « Nous avons dépassé le cadre de la relation classique client-fournisseur de solutions EDA, et nos efforts s’inscrivent désormais dans un véritable programme de recherche-développement qui aura des retombées extrêmement intéressantes pour nos clients. Non seulement nous serons capables de résoudre des motifs á 22 nm, mais nous serons aussi à même de présenter des solutions innovantes pour contenir l’investissement que représente l’informatique en termes de temps de cycle et de coûts, ce qui est extrêmement important pour la réussite globale de nos clients. »  

Les travaux de développement conjoints se réaliseront sur les sites de San Jose de Mentor, sur le site d’East Fishkill pour IBM et sur le site de Yorktown pour IBM Research. IBM et Mentor Graphics développeront des méthodes et des logiciels uniques, reposant sur des techniques mathématiques et des architectures logicielles avancées, pour atteindre des résolutions lithographiques, permettant la production du 22 nm.

 

À propos de la lithographie informatisée
Aujourd’hui, la plupart des circuits intégrés sont fabriqués en 45 nm, voire plus.  La production de circuits intégrés en 22 nm représente un véritable défi, car elle permettra de concevoir des microprocesseurs et des circuits intégrés de système sur puce (SoC) plus puissants, plus compacts et moins gourmands en énergie. Ces composants pourront à leur tour être utilisés dans des serveurs haut de gamme, des ordinateurs portables, des téléphones portables et des appareils électroniques grand public.  Toutefois, les procédés lithographiques actuels – qui consistent à concevoir des masques optiques pour graver en masse les différentes parties d’un circuit sur des petites plaquettes de silicium – ne sont pas adaptés à la gravure des couches stratégiques en 22 nm en raison de limites physiques fondamentales.

La lithographie informatisée permet de s’affranchir de ces limites physiques au cours du processus de fabrication en utilisant des méthodes numériques reposant sur la puissance de calcul informatique pour modifier la forme des masques et les caractéristiques de la source lumineuse à chaque couche de circuit intégré. Ainsi, le résultat obtenu au terme de l’exposition est beaucoup plus proche des formes attendues. La correction de proximité optique (OPC) est un exemple bien connu de lithographie informatisée. Elle constitue un élément clé de l’initiative de miniaturisation informatisée d’IBM.

À propos de Mentor Graphics
Mentor Graphics Corporation (NASDAQ : MENT) est l’un des principaux fournisseurs mondiaux de solutions de conception électronique, pour le matériel et le logiciel, offrant des produits, des services de conseil et une assistance technique reconnue aux sociétés internationales les plus performantes du monde dans le domaine de l’électronique et des semi-conducteurs. Fondée en 1981, la société a réalisé un chiffre d'affaires d’environ 850 millions de dollars US au cours des 12 derniers mois et emploie environ 4 500 personnes dans le monde. Le siège social mondial est situé 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777. Site Web :
http://www.mentor.com/.

À propos d’IBM
Pour plus d’informations sur les produits et services que propose IBM dans le secteur des semiconducteurs, visitez le site
www.ibm.com/technology.

Mentor Graphics et Calibre sont des marques déposées de Mentor Graphics Corporation. Cell Broadband Engine et Cell/B.E. sont des marques de Sony Computer Entertainment, Inc., aux Etats-Unis et/ou dans d’autres pays, et elles sont utilisées sous licence de leurs détenteurs. Tous les autres noms de sociétés ou de produits sont les marques déposées ou les marques commerciales de leurs propriétaires respectifs.)

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